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                氧化铌111[1]
                • 氧化铌111[1]

                氧化铌111[1]


                PVD镀膜一般指在光⊙学零件表面镀膜的目的是〒为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求. 光学镀膜料主要用途分为复合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,激光装置滤光片,保护膜,透明导电膜,变色膜,优良的宽带增透膜,磁性薄膜,可见光区增透膜,红外∩增透膜,分光膜,多层膜,高反射膜,电阻膜,热反射膜,冷光灯、冷光碗,各种镜片→镀膜等。光学※镀膜作用广泛,膜料品种多⌒样,(塔基特靶材)为各①类镀膜企业提供各种镀膜材料。

                主要有靶∴材:硅靶、铌靶、锡靶、钛靶、铟锡靶、氧化铌靶。


                粤ICP备2020137108号